在实践中，经常是使用混合乳化剂的剪切混合乳化机比(bi)使用单(dan)一(yi)乳(ru)化剂的更稳(wen)定(ding)，混(hun)合表(biao)(biao)面(mian)活性剂的表(biao)(biao)面(mian)活性比(bi)单(dan)一(yi)表(biao)(biao)面(mian)活性剂往(wang)往(wang)要(yao)优越得多。

基于(yu)上述两段(duan)得讨论，可(ke)以得出这样(yang)得结论：降低体(ti)系得界面(mian)(mian)张力，是(shi)(shi)使(shi)剪(jian)(jian)切(qie)混合(he)(he)乳(ru)化机体(ti)系稳定的(de)必(bi)(bi)要条(tiao)件(jian)：而形成较牢固的(de)界面(mian)(mian)膜是(shi)(shi)剪(jian)(jian)切(qie)混合(he)(he)乳(ru)化机稳定的(de)充分条(tiao)件(jian)。降低体(ti)系得界面(mian)(mian)张力，是(shi)(shi)使(shi)剪(jian)(jian)切(qie)混合(he)(he)乳(ru)化机体(ti)系稳定的(de)必(bi)(bi)要条(tiao)件(jian)：而形成较牢固的(de)界面(mian)(mian)膜是(shi)(shi)剪(jian)(jian)切(qie)混合(he)(he)乳(ru)化机稳定的(de)充分条(tiao)件(jian)。

电(dian)效(xiao)应的稳定理论对剪(jian)切混合乳化(hua)机来说，若乳化(hua)剂(ji)(ji)是离(li)子型的表(biao)面活(huo)性剂(ji)(ji)，则在(zai)界(jie)面上，主(zhu)要(yao)(yao)由于(yu)电(dian)离(li)还有(you)吸附等作(zuo)用，使(shi)(shi)得(de)剪(jian)切混合乳化(hua)机的液(ye)滴(di)带有(you)电(dian)荷(he)，其电(dian)荷(he)大(da)小依电(dian)离(li)强度(du)而定；而对非(fei)离(li)子表(biao)面活(huo)性剂(ji)(ji)，则主(zhu)要(yao)(yao)由于(yu)吸附还有(you)摩擦等作(zuo)用，使(shi)(shi)得(de)液(ye)滴(di)带有(you)电(dian)荷(he)，其电(dian)荷(he)大(da)小与外相离(li)子浓度(du)及介电(dian)常(chang)熟和摩擦常(chang)数有(you)关。带电(dian)的液(ye)滴(di)靠近时，产(chan)生排斥力(li)。

使(shi)得难以聚结，因而提高了剪切混合乳化机的(de)稳定性。

带(dai)电(dian)(dian)的(de)液(ye)滴(di)(di)(di)靠(kao)近(jin)时(shi)，产(chan)生排斥力。使得难以聚(ju)结，因(yin)而提高了剪切(qie)混(hun)合乳(ru)(ru)化机的(de)稳(wen)定性。剪切(qie)混(hun)合乳(ru)(ru)化机的(de)带(dai)电(dian)(dian)液(ye)滴(di)(di)(di)在界面的(de)两(liang)侧构成双(shuang)电(dian)(dian)层结构，双(shuang)电(dian)(dian)层的(de)排斥作用(yong)，对剪切(qie)混(hun)合乳(ru)(ru)化机的(de)稳(wen)定有很大(da)的(de)意义。双(shuang)电(dian)(dian)层之间(jian)(jian)的(de)排斥能取(qu)决(jue)于(yu)液(ye)滴(di)(di)(di)大(da)小(xiao)及双(shuang)电(dian)(dian)层厚(hou)度电(dian)(dian)层之间(jian)(jian)的(de)排斥能取(qu)决(jue)于(yu)液(ye)滴(di)(di)(di)大(da)小(xiao)及双(shuang)电(dian)(dian)层厚(hou)度1/κ，还(hai)有ξ电(dian)(dian)势(或(huo)电(dian)(dian)势φ0)。

当(dang)无电介(jie)质表面(mian)(mian)活性(xing)剂(ji)存在存在时，虽然界(jie)面(mian)(mian)两侧的电势差ΔV很(hen)大，但界(jie)面(mian)(mian)电位ΔV很(hen)大，但界(jie)面(mian)(mian)电位φ0却很(hen)小(xiao)，所以液滴能(neng)相(xiang)互靠拢而发(fa)生(sheng)聚沉，这对剪切混(hun)合乳化机很(hen)不利(li)。

当有电(dian)解质(zhi)表面(mian)(mian)活性(xing)剂存在时(shi)，令液滴带(dai)电(dian)。O/W型的(de)剪切混合乳化机(ji)多(duo)带(dai)负电(dian)荷；而W/O型的(de)多(duo)带(dai)正电(dian)荷。这(zhei)时(shi)活性(xing)剂离(li)子吸附在界面(mian)(mian)上并定(ding)向排列，以带(dai)电(dian)端(duan)指向水相，便将反号(hao)离(li)子吸引过(guo)来形成扩散双电(dian)层(ceng)。

具有较高的(de)(de)O/W型的(de)(de)剪切(qie)混(hun)(hun)合乳化(hua)机多(duo)带(dai)负电(dian)荷；而(er)W/O型的(de)(de)多(duo)带(dai)正(zheng)电(dian)荷。这时活性剂离(li)(li)子吸(xi)附在(zai)界(jie)面上并定(ding)向(xiang)排列，以(yi)带(dai)电(dian)端指(zhi)向(xiang)水相，便将反号离(li)(li)子吸(xi)引过来形成扩散双电(dian)层。具有较高的(de)(de)φ0及较厚的(de)(de)双电(dian)层，而(er)使剪切(qie)混(hun)(hun)合乳化(hua)机稳(wen)定(ding)。

若在上面(mian)(mian)的(de)剪(jian)切混合(he)乳(ru)化(hua)机中加入大(da)量的(de)电(dian)解(jie)质盐，则(ze)由(you)于水相中反(fan)(fan)号离(li)(li)子(zi)的(de)浓度增(zeng)加，一(yi)(yi)方(fang)面(mian)(mian)会(hui)压缩双(shuang)(shuang)电(dian)层(ceng)(ceng)，使其厚(hou)度变薄(bo)，另一(yi)(yi)方(fang)面(mian)(mian)他(ta)(ta)会(hui)进(jin)入表面(mian)(mian)活性(xing)(xing)剂(ji)的(de)吸附层(ceng)(ceng)中，形成(cheng)一(yi)(yi)层(ceng)(ceng)很薄(bo)的(de)等(deng)(deng)电(dian)势(shi)层(ceng)(ceng)，此时(shi)，尽管(guan)(guan)电(dian)势(shi)差(cha)值(zhi)(zhi)不便，但是(shi)剪(jian)切混合(he)乳(ru)化(hua)机中加入大(da)量的(de)电(dian)解(jie)质盐，则(ze)由(you)于水相中反(fan)(fan)号离(li)(li)子(zi)的(de)浓度增(zeng)加，一(yi)(yi)方(fang)面(mian)(mian)会(hui)压缩双(shuang)(shuang)电(dian)层(ceng)(ceng)，使其厚(hou)度变薄(bo)，另一(yi)(yi)方(fang)面(mian)(mian)他(ta)(ta)会(hui)进(jin)入表面(mian)(mian)活性(xing)(xing)剂(ji)的(de)吸附层(ceng)(ceng)中，形成(cheng)一(yi)(yi)层(ceng)(ceng)很薄(bo)的(de)等(deng)(deng)电(dian)势(shi)层(ceng)(ceng)，此时(shi)，尽管(guan)(guan)电(dian)势(shi)差(cha)值(zhi)(zhi)不便，但是(shi)φ0减小，双(shuang)(shuang)电(dian)层(ceng)(ceng)的(de)厚(hou)度也(ye)减薄(bo)，因(yin)而剪(jian)切混合(he)乳(ru)化(hua)机的(de)稳定性(xing)(xing)下(xia)降。